저온 멸균 방식 비교 — EO · 과산화수소 플라즈마 · 이산화염소

열과 습기에 취약한 의료기기가 늘면서 저온 멸균의 역할이 커지고 있습니다. 대표적인 저온 방식인 EO 가스, 과산화수소 가스 플라즈마, 이산화염소를 비교합니다.

저온 멸균이 필요한 이유

최신 의료기기는 폴리머·전자부품·광학부품이 결합돼 고온·고습을 견디지 못하는 경우가 많습니다. 저온 멸균은 재질을 손상시키지 않으면서 무균성을 확보하기 위한 대안입니다.

EO 가스는 침투력이 뛰어나 복잡한 관강 내부까지 멸균할 수 있고 대용량 처리에 유리합니다. 다만 잔류가스 제거를 위한 에어레이션과 공정 시간이 필요합니다.

과산화수소 가스 플라즈마는 46℃ 내외의 저온에서 진행되며 잔류독성이 거의 없고 정화 시간이 짧습니다. 다만 섬유·종이·액체 등 흡수성 물질과 길고 좁은 관강에는 제약이 있습니다.

이산화염소(ClO₂)는 멸균 시간이 매우 짧고 잔류량 검사가 불필요하지만, 멸균제 관리가 중요하고 ClO₂에 민감한 재질에는 사용할 수 없습니다.

재질 적합성, 관강 구조, 처리량, 잔류물 관리, 공정 시간과 비용을 종합적으로 검토해 방식을 선택합니다. 단일 방식으로 모든 제품을 처리하기 어려운 경우 방식을 병행하기도 합니다.